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2023

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新品首发震撼上市!这款“硬核”设备助力微米级研磨抛光!

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新品首发震撼上市!这款“硬核”设备助力微米级研磨抛光!

 
 

SemiPOL能够对各种材料(光学镜片、半导体晶片、金属非金属晶相)进行精确的研磨抛光,从而进行显微镜(SEM、FIB、TEM等)分析。目标精度微米级。主要作平行研磨抛光,结合更多附件,使复杂异形件及面的研磨抛光更容易。

实时监控材料去除量,或量化设定材料磨屑量并实现无人值守操作。双步进电机驱动,分别控制研磨座摆动速度和幅度提高研磨件平面度、光整度及研磨耗材利用率。

 
 
产品特点
 
  • 研磨盘尺寸:8英寸(Φ203mm);

  • 研磨盘转速:0–600rpm,可正转/反转;

  • 液晶屏实时显示材料去除量,分辨率1um,稳定精度10um;

  • 可设定材料磨削量,分辨率1um,稳定精度10um,磨屑量到达设定值,设备自动停止运行;

  • 可设定研磨时间,研磨时间到达设定值,设备自动停止运行;

  • 7英寸液晶显示/触摸屏,可保存/编辑至少20组参数;

  • 样品可自转,可不转,可往复摆动,摆动幅度可调;

  • 自动/手动控制冷却水通断;

  • 主轴电机功率750W,采用伺服电机,大扭矩、恒扭矩输出;样品摆动采用步进电机,扭矩更大更耐用

 

 
 
技术参数

 

型号

SemiPOL

工作盘

直径

8英寸

转速

0-600rpm,无极调速

转向

CW/CCW

功率

750W

出厂校验

平面度<2um

样品夹持头

转速

0-50rpm,无极调速

转向

CW/CCW

半幅旋转

有,幅度可调

摆动

有,幅度、快慢可调

出厂校验

与盘垂直度<2um;与平行度<2um

最大去除量

20mm

电气

电源

220VAC

面板

7英寸触摸屏

尺寸

WxDxH

700x430x580mm

重量

57kg

 

 
 
相关耗材

 

金刚石抛光膜

 

 

金相抛光布

 

氧化铝/二氧化硅抛光液

 

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